संक्षारक रासायनिक उद्योग - GRAT कठोर रासायनिक वातावरण में संक्षारण प्रतिरोधी विद्युत नियंत्रण वाल्व
आक्रामक रासायनिक उद्योगों में, जहां उपकरण अत्यधिक संक्षारक पदार्थों के संपर्क में आते हैं, स्थायित्व और विश्वसनीयता सुनिश्चित करना सर्वोपरि है।
ग्रिट के संक्षारण प्रतिरोधी विद्युत नियंत्रण वाल्व को फ्लोराइड आयनों के साथ क्लोरीन गैस के प्रसंस्करण की सुविधा में स्थापित किया गया है, जिसे विशेष रूप से ऐसी चुनौतीपूर्ण परिस्थितियों का सामना करने के लिए डिज़ाइन किया गया है।0 से 120 डिग्री सेल्सियस के तापमान के दायरे में प्रभावी ढंग से काम करना, यह वाल्व मजबूत निर्माण और उन्नत प्रौद्योगिकी दोनों का प्रदर्शन करता है।
प्रमुख विशेषताएं और लाभः
- असाधारण जंग प्रतिरोध: एक कास्ट स्टील बॉडी और कोर के साथ निर्मित, जो पूरी तरह से एफ 46 से अस्तरित है, वाल्व अत्यधिक संक्षारक मीडिया के खिलाफ बेहतर सुरक्षा प्रदान करता है, जिससे दीर्घायु और परिचालन स्थिरता सुनिश्चित होती है।
- उन्नत प्रौद्योगिकी: पेटेंट पीपीडी पोजिशनिंग टेक्नोलॉजी और उच्च तापमान स्वचालित शीतलन से लैस, वाल्व सटीक नियंत्रण बनाए रखते हुए उतार-चढ़ाव वाली परिचालन स्थितियों के लिए कुशलता से अनुकूलित होता है।
- स्वचालित प्रणालियों में निर्बाध एकीकरण: 4-20 एमए संचार संकेत और डीसीएस संगतता का समर्थन करते हुए, वाल्व संयंत्र-व्यापी स्वचालन में सुचारू एकीकरण को सक्षम करता है, जिससे प्रक्रिया दक्षता में वृद्धि होती है।
इस विशेष वाल्व को अत्यधिक संक्षारक वातावरण की चरम मांगों को सहन करने के लिए डिज़ाइन किया गया है। नीचे प्रमुख तकनीकी विनिर्देश दिए गए हैं जो इसे इस चुनौतीपूर्ण अनुप्रयोग के लिए उपयुक्त बनाते हैं।
- वाल्व शरीर सामग्रीःकास्ट स्टील (पूरी तरह से F46 के साथ अस्तरित)
- वाल्व कोर सामग्रीःकास्ट स्टील (पूरी तरह से F46 के साथ अस्तरित)
- मुहर:F46
- मध्यम:क्लोरीन गैस (फ्लोराइड आयनों के साथ)
- मध्यम तापमानः0-120°C
- विद्युत आपूर्ति:AC220V
- विशेष प्रौद्योगिकीःपेटेंट पीपीडी पोजिशनिंग तकनीक, उच्च तापमान स्वचालित शीतलन तकनीक
- प्रवाह विशेषताएं:समान प्रतिशत
- संचार संकेत:4-20mA
- डीसीएस प्रणालीःडीसीएस प्रणालियों के साथ संचालन और संचार का समर्थन करता है
- ऑपरेशन प्रारंभ तिथिःदिसम्बर 2010
- वाल्व का अपेक्षित जीवनकाल:3 वर्ष (सुरक्षा अवधि)
दिसंबर 2010 में चालू होने के बाद से इस नियंत्रण वाल्व ने लगातार, विश्वसनीय प्रदर्शन प्रदर्शित किया है, जिससे कठोर रासायनिक प्रक्रियाओं के भीतर अनुप्रयोगों के लिए इसकी उपयुक्तता साबित हुई है।
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